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HMDS預(yù)處理烘箱在光刻工藝中的重要作用為:增強(qiáng)光刻膠和襯底表面的粘附力。
光刻工藝中涂膠顯影流程包括HMDS(六甲基二硅氮烷,增粘劑)預(yù)處理、涂膠、前烘、曝光、后烘、顯影和堅(jiān)膜。
HMDS預(yù)處理作用:
增強(qiáng)光刻膠和襯底表面的粘附力;
實(shí)現(xiàn)方法:浸泡、涂覆、氣相處理(即HMDS烘箱)等。
HMDS預(yù)處理烘箱
JS-hmds90烘箱采用氣相沉積的方法涂布HMDS化合物。HMDS烘箱在高溫條件下,達(dá)到真空狀態(tài)后開(kāi)始涂布工藝,涂布完成后排出尾氣,烘箱內(nèi)部充入N2,達(dá)到常壓后方可開(kāi)門(mén)。
溫度范圍:RT+10-250℃
真空度:≤1torr
控制儀表:人機(jī)界面,一鍵運(yùn)行
儲(chǔ)液瓶:HMDS儲(chǔ)液量1000ml
真空泵:無(wú)油渦旋真空泵
數(shù)據(jù)處理:多個(gè)工藝方案,可修改并記錄,使用數(shù)據(jù)可記錄
保護(hù)裝置: 低液位報(bào)警,HMDS藥液泄漏報(bào)&警,超溫保護(hù)并斷開(kāi)加熱,超溫保護(hù),漏電保護(hù),過(guò)熱保護(hù)等
涂膠
作用:a.轉(zhuǎn)移掩模版圖形到襯底的介質(zhì)b刻蝕工藝中保護(hù)襯底;實(shí)現(xiàn)方法:浸泡、旋轉(zhuǎn)、噴霧、刷膠等:
前烘
b.蒸發(fā)溶劑;作用:a.增強(qiáng)粘附性實(shí)現(xiàn)方法:真空熱板85~120C處理。
曝光
作用:將掩模版圖形轉(zhuǎn)移到襯底表面;實(shí)現(xiàn)方法:接觸式、接近式、投影式。
后烘
作用:a.減少駐波效應(yīng)
b.使光刻膠更易溶于顯影液:實(shí)現(xiàn)方法:熱板或烘箱等110-130C處理。
顯影作用:去除(未)曝光膠膜,保留圖形實(shí)現(xiàn)方法:浸泡、旋轉(zhuǎn)浸泡、旋轉(zhuǎn)噴霧
堅(jiān)膜
作用:a.進(jìn)一步減少駐波效應(yīng)
b.進(jìn)一步增強(qiáng)抗刻蝕能力;實(shí)現(xiàn)方法:熱板或堅(jiān)膜烘箱等100-130C處理