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HMDS真空系統(tǒng) HMDS預(yù)處理系統(tǒng) 圖像反轉(zhuǎn)烘箱

HMDS真空系統(tǒng) HMDS預(yù)處理系統(tǒng) 圖像反轉(zhuǎn)烘箱

簡要描述:

HMDS真空系統(tǒng) HMDS預(yù)處理系統(tǒng) 圖像反轉(zhuǎn)烘箱可快速、均勻、經(jīng)濟高效地用六甲基二硅烷 (HMDS) 對晶圓表面進行底漆處理,從而改善光刻膠的附著力。

HMDS真空系統(tǒng) HMDS預(yù)處理系統(tǒng) 圖像反轉(zhuǎn)烘箱用途

  二合一真空腔體帶來更低的成本、更高的效率和更可靠的工藝。的溫控、工藝時間和腔體尺寸控制系統(tǒng)讓您用更少的化學(xué)品,實現(xiàn)對沉積過程環(huán)境的掌控。

   智能型HMDS真空系統(tǒng)可快速、均勻、經(jīng)濟高效地用六甲基二硅烷 (HMDS) 對晶圓表面進行底漆處理,從而改善光刻膠的附著力。

有效的光刻膠處理是后續(xù)所有工藝步驟的基礎(chǔ),只有被處理的表面才能準確復(fù)制,避免蝕刻不足或邊緣粗糙。JS-HMDS系列真空系統(tǒng)可脫水晶圓,使HMDS 層附著力更強,即使暴露于大氣濕氣數(shù)周也能保持穩(wěn)定。

智能型HMDS真空系統(tǒng) HMDS預(yù)處理系統(tǒng)特點

通過使用六甲基二硅氮烷(HMDS)對晶圓表面進行快速、均勻、且成本效益高的硅烷化處理,有效增強了與光刻膠的粘合性。

真空鍍膜技術(shù)能脫水晶圓,確保了更強的粘接強度。

即便長時間暴露于潮濕的空氣中,HMDS層也能維持其穩(wěn)定性。

我們的控制系統(tǒng)支持用戶根據(jù)需要選擇溫度、處理時長及腔室尺寸。

此外,我們的技術(shù)還能降低化學(xué)物品的使用量和成本,實現(xiàn)經(jīng)濟效益。

通過工藝處理,達到圖像反轉(zhuǎn)效果,解決了圖像反轉(zhuǎn)光刻膠的復(fù)雜性。

HMDS真空系統(tǒng) HMDS預(yù)處理系統(tǒng) 圖像反轉(zhuǎn)烘箱參數(shù)

設(shè)備型號:JS-HMDS90AI                       

工作室尺寸(mm): 450×450×450,650*650*650,可自定
材質(zhì):外箱采用優(yōu)質(zhì)冷軋板噴塑或不銹鋼,內(nèi)箱采用316L醫(yī)用級不銹鋼
溫度范圍:RT+10-200℃ 
溫度分辨率:0.1℃
溫度波動度:≤±0.5
真空度:1torr
潔凈度:設(shè)備采用無塵材料,適用100級光刻間凈化環(huán)境
控制儀表:人機界面
擱板層數(shù):2層
HMDS控制:可控制HMDS藥夜添加量
真空泵:旋片式油泵或干泵
保護裝置:HMDS藥液泄漏報警裝置,HMDS自動添加,超溫保護,漏電保護,過熱保護


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