反轉(zhuǎn)真空烘箱 圖像反轉(zhuǎn)氨氣爐用于鈑金加熱、淬火、退火、焊接等工藝;在電子制造業(yè)中,可以用于半導(dǎo)體器件制造中的退火和腐蝕等工藝;在航空航天制造業(yè)中,可以用于航空發(fā)動(dòng)機(jī)和航天器材料的熱處理等。
反轉(zhuǎn)真空烘箱 圖像反轉(zhuǎn)氨氣爐用途
圖像反轉(zhuǎn)(image inversion)是一種使用正膠和暗場(chǎng)掩模版做出島區(qū)的工藝。
在曝光小尺寸圖形時(shí),傾向于使用正膠。正膠適于使用暗場(chǎng)掩模版做孔洞。暗場(chǎng)掩模版大部分被鉻覆蓋,因?yàn)殂t不會(huì)像玻璃一樣易損,所以缺陷比拋光較少。然而,一些掩模版用來(lái)曝光島區(qū)。而不是孔洞,比如金屬層掩模版上是島區(qū)圖形。
在曝光結(jié)束后,光刻膠里的圖像與想要得到的圖像是相反的,也就是說(shuō),如果拋光接著顯影的話,會(huì)得到孔洞而不是島區(qū)。
反轉(zhuǎn)真空烘箱 圖像反轉(zhuǎn)氨氣爐性能
尺寸(可定制) | 300×300×300(mm) 450×450×450(mm),可定制 |
材質(zhì) | 內(nèi)箱采用SUS304不銹鋼,外箱采用優(yōu)質(zhì)冷軋板靜電噴塑 |
溫度范圍 | RT+50-200℃ |
溫度分辨率 | 0.1℃ |
溫度波動(dòng)度 | ≤±1℃ |
操作模式 | 人機(jī)界面 |
升溫速率 | ≤5℃/min |
氣體 | 2路供氣 |
真空度 | 0.1~100KPa |
圖像反轉(zhuǎn)系統(tǒng) Lmage inversion Oven
已經(jīng)在很多領(lǐng)域得到了廣泛應(yīng)用。比如,在汽車制造業(yè)中,可以用于鈑金加熱、淬火、退火、焊接等工藝;在電子制造業(yè)中,可以用于半導(dǎo)體器件制造中的退火和腐蝕等工藝;在航空航天制造業(yè)中,可以用于航空發(fā)動(dòng)機(jī)和航天器材料的熱處理等。